德国INFICON薄膜沉积控制器

德国INFICON薄膜沉积控制器

INFICON是仪器，关键传感器技术和过程控制软件的提供商，这些产品可复杂工业真空工艺的生产率和质量。这些分析，测量和控制产品对于空调/制冷和汽车制造中的气体泄漏检测。对于光学和平面显示器，太阳能电池和工业真空镀膜应用中的半导体和薄膜镀膜的复杂制造，它们对于设备制造商和终用户。我们基于真空的工艺的其他用户包括生命科学，研究，航空航天，包装，热处理，激光切割和许多其他工业工艺。我们还利用我们在真空技术方面的知识来提供的，

INFICON薄膜沉积控制器：

IC6薄膜沉积控制器

XTC / 3薄膜沉积控制器

Cygnus®2薄膜沉积控制器

SQC-310薄膜沉积控制器

产品应用说明：

INFICON薄膜沉积控制器IC6沉积控制器允许使用QCM传感器控制沉积过程的速率。从基本的功能到大的功能，INFICON均可提供沉积控制器以满足您的需求。市场的 NFICON 薄膜沉积控制器、监测器和 QCM 测量仪能够以无可匹敌的测量速度和精度控制复杂过程的沉积率和厚度。高级软件和逻辑 I/O 功能使我们的薄膜沉积控制器/QCM 测量仪能够完全集成到真空系统中，从而实现自动过程控制。控制不那么复杂的过程时，可使用 INFICON 经济型精密控制器、监测器和 QCM 测量仪，它们的薄膜测量精度比传统技术高出 100 倍。

典型的 QCM 系统包括石英晶体 (感测装置)、晶体支架 (传感器，用于固定晶体并实现与晶体的电气连接)、用于驱动晶体的振荡器 (对于 ModeLock 测量仪，则为 XIU)、控制器或监测器 (用于读取沉积率和厚度并存储过程参数)。INFICON 既可提供完整的 QCM 系统，又可提供为研究应用设计的单个部件。

IC6薄膜沉积控制器在INFICON薄膜沉积控制器成熟的性能基础上，增添了更多的功能，可帮助您实现沉积过程的价值。IC6使用我们的ModeLock频率测量系统，提供稳定，逐步的速度和厚度测量，额定分辨率可达每1/10秒0.00433Å/ s，是行业中的佼佼者。IC6具有其他石英晶体控制器拟的性能，品质和功能，确认您的过程卓越的可重复性。

主要技术参数：

INFICON ModeLock技术获得，稳定的速率和厚度测量分辨率，即使在速率的情况下

Auto Z技术通过自动测定沉积材料的Z比值，可厚度测量的精度

支持多六个来源同时共沉积

彩色TFT LCD显示屏使用户很容易看到过程的进展状况

100ms样本速率下频率范围为+/- 0.0035 Hz

U数据存储功能可存储屏幕截图，配方存储和数据记录

强大的I / O能够充分利用其可集成的简单或复杂的系统(使用可扩展输入(28)和输出(24继电器，14 TTL输出)，并充分利用逻辑功能(100个逻辑语句)

6个标准DAC输出和另6个可选输出的源控制，速率或厚度监控

可容纳多50个过程，每个过程200层，这些过程关联到一起，总共可容纳10,000层。

多路传感器可平均分配为8个传感器

4米XIU选件能够在大型系统中使用替代的真空传感器电缆

可选以太网通信

可选的IC6配置编辑器软件(件号781-620-G1)-基于LabVIEW®的Windows®软件，允许离线创建和编辑IC6配置文件，并将IC / 5配置文件转换为IC6格式。

合RoHS标准

高端光学镀膜

(1)工具/密度= 100/1，基础频率= 6兆赫兹

(2)随过程变化;数值表示典型的精度

(3)每种类型的配置

(4)IC6有6个DAC输出标准，其余再选择再添加6个。可将12个中的任何一个配置为来源控制电压或记录器输出，但可同时控制的来源数量为6

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