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Raith产品描述：Raith 电子束光刻仪产品介绍 EBPG系列采用高能电子束直写技术，在硅片、化合物半导体等基底上实现纳米级图形制作。仪集成激光定位和温度补偿模块，支持最大8英寸晶圆加工。
公司简介
Raith GmbH 是德国纳米技术设备制造商，成立于1999年，专注于电子束和离子束加工仪的研发生产，产品服务于微纳结构制备领域。
Raith 电子束光刻仪产品类型
1. 电子束光刻仪
2. 聚焦离子束仪
3. 纳米操纵设备
4. 电子显微镜配件
5. 光刻胶处理设备
6. 图形发生器
7. 纳米定位平台
Raith 电子束光刻仪主要型号
1. EBPG 5200
2. EBPG 5150
3. EBPG 5000+
4. EBPG 4000
5. EBPG Custom（定制型）
Raith 电子束光刻仪产品介绍
EBPG系列采用高能电子束直写技术，在硅片、化合物半导体等基底上实现纳米级图形制作。仪集成激光定位和温度补偿模块，支持最大8英寸晶圆加工。
Raith 电子束光刻仪技术参数（依据行业典型规格）：
- 电子束加速电压：10-100 kV
- 束斑尺寸：<10 nm（典型值）
- 定位精度：±15 nm
- 书写场尺寸：50 μm至1 mm
- 最大基片尺寸：8英寸
- 数据格式：GDSII/OASIS
Raith 电子束光刻仪工作原理：电子枪发射电子束，经电磁透镜聚焦后，通过偏转仪控制束斑在涂覆光刻胶的基片上扫描，通过化学显影形成微纳结构。
Raith 电子束光刻仪优势特点
1. 高分辨率图形制作能力
2. 多尺度加工适应性
3. 模块化结构便于功能扩展
4. 温度漂移补偿稳定性较好
Raith 电子束光刻仪主要应用
1. 半导体器件研发原型制作
2. 光子晶体结构制备
3. 纳米电极阵列加工
4. 量子器件研究
5. 掩模板修复
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